Nauka · Eksitacija površinskih elektronskih talasa u plazmi
Glava III: Eksitacija prstenastim izvorom oko cilindrične plazme u homogenom dielektriku
Vukota Babović · 1999
G L A V A III
EKSITACIJA POVRŠINSKIH TALASA PRSTENASTIM IZVOROM OKO CILINDRIČNE PLAZME U HOMOGENOM DIELEKTRIKU
Konfiguracija
U ovoj glavi ćemo se baviti specifičnostima eksitovanja površinskog talasa na homogenoj, hladnoj cilindričnoj plazmi (permitivnosti εp) oko koje je homogeni dielektrik (permitivnosti εg); elektromagnetsko polje se generiše prstenastim izvorom izvan plazme. (Sličan zadatak sa prstenastim izvorom lociranim u plazmi rešen je u radu Samaddara i Yildiza [70].) Konfiguracija problema prikazana je na slici 1.
Slika 1. Kružni cilindar homogene, hladne plazme u klasičnom dielektriku bez gubitaka; permitivnost plazme εp, permitivnost dielektrika εg; slot antena u vertikalnoj ravni z=0, poluprečnik prstenaste magnetske struje R; lansira se aksijalno simetrični površinski talas duž z ose.
Slot antena smeštena je u ravni z=0; poluprečnik prstenastog proreza koji se napaja naponom amplitude U jednak je R . Poluprečnik poprečnog preseka plazme iznosi a , pri čemu je R>a. Model sredine i antenski sistem isti su kao i oni koji su tretirani u radu Gupte i Singha [70], izuzev što ćemo dopustiti postojanje idealnog homogenog klasičnog dielektrika oko plazmenog stuba. Takođe, sledićemo i matematički tretman primenjen u tom radu.
Polazne jednačine
Kao i u tretmanu sloja plazme u prethodnoj glavi mogli bismo rešavati postavljeni zadatak primenom Goubauove uopštene formule, jed. (D19). Ovde ćemo, međutim, primeniti alternativni postupak koji prstenasti izvor svodi na granični problem. Taj put zahteva da startujemo od Maxwellovih jednačina u obliku prilagođenom neposrednom uvođenju pojma magnetske struje [122]
rot H=ε0ε∂t∂E, (1)
rot E=−μ0∂t∂H−Jm. (2)
Gustina magnetske struje u cilindričnom koordinatnom sistemu sa slike 2 ima jedino azimutalnu komponentu i može se zapisati u obliku
Jmϕ=Uδ(ρ−R)δ(z).(3)
Ovde je R poluprečnik prstenastog proreza antene, a U amplituda njenog visokofrekventnog napona.
Slika 2. Koordinatni sistem i dimenzije; poluprečnik plazmenog cilindra a ; poluprečnik prstenastog slota R, antenska ravan z=0; proizvoljna tačka u prostoru sa tekućim koordinatama cilindričnog sistema: radijus ρ, azimut ϕ i dužina z .
Jednačine (1) i (2) dovode, uz pretpostavku prostoperiodičnog zakona vremena, i za aksijalno simetrično polje koje ima azimutalnu komponentu jačine magnetskog polja H≡Hϕ i longitudinalnu (Ez) i radijalnu (Eρ) komponentu jačine električnog polja, do talasne jednačine
Odavde sledi da u prvoj oblasti (plazma, ρ<a), gde nema izvora zračenja, treba tražiti rešenja homogene jednačine
dρ2d2h+ρ1dρdh−(u2+ρ21)h=0,oblastI(8)
u kojoj figuriše transverzalni talasni broj u definisan pomoću veze
u2=ζ2−k02εp;(9)
permitivnost jonizovane sredine, po modelu hladnog, nekonvencionalnog dielektrika zadata je poznatim izrazom (v. Uvod)
εp=1−ω2ωp2.(10)
Ova je veličina funkcija koncentracije n slobodnih elektrona u plazmi budući da je kružna plazmena učestanost ωp=m0ε0ne2 povezana sa tim bitnim parametrom posredstvom univerzalnih konstanti (e i m0 su naelektrisanje i masa mirovanja elektrona, ε0 je električna konstanta).
U drugoj oblasti (dielektrik, ρ>a), gde postoje izvori zračenja, treba rešavati nehomogenu jednačinu
u kojoj je v odgovarajući transverzalni broj definisan relacijom
v2=ζ2−k02εg.(12)
Posmatrajući jednačinu koja važi za prvu oblast, prepoznajemo u njoj Besselovu diferencijalnu jednačinu, te je
h(ρ<a)=I1(uρ). (13)
Ovde je I1 Besselova modifikovana funkcija prvog reda, a konstanta integracije. U drugoj oblasti, do rešenja možemo doći tako što ćemo prvo tražiti funkciju h(ρ>a) koja zadovoljava homogenu jednačinu u dielektriku, a onda primeniti na nju granični uslov
dρdhR+∈−dρdhR−∈=iωε0εgU(14)
koji uračunava fiktivnu magnetsku struju izvora. U skladu s tom procedurom stavljamo
h(a<ρ<R)=I1(vρ)+K1(vρ), (15)
gde su i integracione konstante u toj oblasti. Na kraju je i
h(ρ>R)=K1(νρ) (16)
rešenje u oblasti iznad nivoa prstenaste struje, sa poslednjom integracionom konstantom . Napišimo još i izraz za Fourierovu transformaciju longitudinalne komponente vektora jačine električnog polja:
z(ρ,ζ)=iωε0ε1ρ1dρd[ρh(ρ,ζ)]. (17)
Pređimo na određivanje integracionih konstanti , , i .
Granični uslovi i određivanje integracionih konstanti
Zatražimo na početku da rešenja (15) i (16) zadovolje uslov (14); dobija se
K1′(vR)−I1′(vR)−K1′(vR) = iωε0εgvU. (18)
U jednačini se javlja prvi izvod po argumentu modifikovanih Besselovih funkcija. Dalje, funkcija h mora biti neprekidna na površini plazme, što daje
I1(va)+K1(va)=I1(ua). (19)
Takođe, mora biti neprekidna na površini plazme i -slika električnog polja, funkcija z , te se stiže i do uslova
εguI0(ua)=εpvI0(va)−εpvK0(va). (20)
Na kraju, zahtevajmo da bude neprekidna funkcija h na nivou ρ=R :
K1(vR)=I1(vR)+K1(vR). (21)
Tako smo formirali četiri nezavisne jednačine za četiri nepoznate integracione konstante. Napišimo determinantu sistema jednačina (19), (20), (21) i (18) :
Sada možemo da pređemo na izračunavanje komponenti polja površinskog talasa. Kao i u slučaju sloja plazme, ovde nećemo tražiti izraze za radijacionu komponentu ukupnog elektromagnetskog pola koja inače obavezno prati jedan ovakav eksitacioni problem. Naš glavni zadatak je nađemo formulu za snagu površinskog talasa koji se emituje prstenastim izvorom i da analiziramo frekventnu zavisnost snage.
Inverzna Fourierova transformacija
Prvo pogledajmo integralni izraz za jačinu magnetskog polja u plazmi; on se formira kada se rešenje (13), uz rezultat (23), uvrsti u formulu (5):
Integral treba rešavati metodom kompleksne integracije; pripadajući krivolinijski integral ima realni pol prvog reda obuhvaćen konturom integracije, na mestu anuliranja determinante sistema. Kontribucija pola određuje kompleksnu amplitudu jačine magnetskog polja površinskog talasa. Pošto je postupak vrlo sličan onom koji je objašnjen u prvoj glavi, preskočićemo detalje izvođenja; imamo da je
H1=2π12πiζ→βlim[(ζ−β)ΔΔ1AI1(uρ)e−iζz].(32)
Ako sa Δ′ označimo prvi izvod determinante sistema po normalizovanom talasnom broju X=βa, gornji izraz možemo da transformišemo i dovedemo na ovaj konačni oblik (uveli smo normalizovanu aksijalnu koordinatu Z=z/a ):
H1=−H0vapYΔ′Δ1AI1(uaaρ)ei(ωt−XZ).(33)
Ovde je H0=ℜE0 , gde je ℜ=ε0εgμ0 i E0=aU; parametar elektronske gustine u plazmi je p=cωpa (c− brzina svetlosti u dielektriku). Pomoću ovog rešenja i Maxwellovih jednačina možemo dobiti i komponente jačine električnog polja površinskog talasa u plazmi:
Pošto su sada poznate sve tri komponente polja površinskog talasa, prelazimo na izračunavanje elektromagnetske snage u površinskom talasu.
Snaga aksijalno simetričnog površinskog talasa
Snagu ćemo dobiti kao zbir snaga, P=P1+P2+P3; prvi član je snaga u plazmenom cilindru, drugi član je snaga u dielektriku izvan plazme (do nivoa prstenastog proreza), a treći član je snaga u dielektriku iznad nivoa prestenastog proreza antene. Primenjujući metod Poyntingovog vektora, potražimo izraz za snagu talasa u plazmi po formuli [122]:
P1=21Re0∫aEρ1H1∗2πρdρ.(42)
Unećemo izraze za poprečnu komponentu vektora jačine električnog polja (34) i konjugovano kompleksnu vrednost jačine magnetskoh polja (33). Prethodno definišimo normalizacioni faktor
P0=2πℜU2; (43)
(izračunavaćemo normalizovane snage P~i≡Pi/P0 u sve tri oblasti). U plazmi je
P~1=(va)2pXYεpεg(Δ′Δ1A)()(44)
Ovde je
ℑ1≡a220∫aρI12(uρ)dρ(45)
integral koji je tablični, sa rešenjem [103]
ℑ1=I12(ua)−I0(ua)I2(ua); (45’)
rešenje je, vidimo, kombinacija odgovarajućih Besselovih funkcija argumenta
ua=X2−p2Y2εgεp.(46)
Analognim postupkom, za drugi deo snage talasa nalazimo:
Za numeričko tretiranje ovog izraza potrebno je znati disperzionu relaciju površinskog talasa, a poželjno je i razraditi metod za njenu efektivnu upotrebu.
Zakon disperzije i aproksimant po metodu fiksne tačke
Disperziona relacija određena je uslovom
Δ(ω,β)=0.(60)
Imajući u vidu rezultat (22), ovu jednačinu možemo svesti na formulu
Pošto transverzalni talasni brojevi zavise od normalizovane učestanosti, ovo je jedno samo prividno eksplicitno rešenje. Međutim, jed. (61) je dobra osnova da se do eksplicitnog oblika disperzione veze zaista i dođe brzo i elegantno. Treba iskoristiti približnu jednakost u≈v≈β (kvazistatički postupak) i dobiti nultu aproksimaciju Y0 za eksplicitnu relaciju Y=f(X) u punoj talasnoj reprezentaciji; dakle,
Y0=(1+εgI1(X)I0(X)K0(X)K1(X))−21.(62)
Često ovaj korak obezbeđuje dovoljnu tačnost u pojedinim primenama. No, mi smo primetili da prva aproksimacija, uz manja usložnjavanja postupka, skoro redovno prevodi implicitnu formu (61) u eksplicitnu zavisnost izvrsne tačnosti; prva se aproksimacija dobija kad se nulto rešenje koristi na svim mestima u desnoj strani relacije (61) gde figuriše veličina Y, što daje:
Na slici 3 prikazan je disperzioni grafik aksijalno simetričnog talasa na plazmenom cilindru u homogenom dielektriku permitivnosti εg=4.8 . Gornja kriva je nulti aproksimant po jed. (62). Donja kriva je prvi aproksimant po našem metodu fiksne tačke; parametar elektronske gustine je p0=c0ωpa=1; krive za koje ovaj parametar leži u granicama od nule do jedinice ležaće između dve prikazane krive.
Slika 3. Disperzioni grafik aksijalno simetričnog talasa na cilindru hladne homogene plazme u homo-genom dielektriku permitivnosti εg=4.8 ; parametar elektronske gustine p0=1; gornja kriva: nulti aproksimant (kvazistatika), jed. (62); donja kriva: prvi aproksimant po metodu fiksne tačke, jed. (63)
Naravno, mogu se tražiti i aproksimacije višeg reda. Na slici 4 vidi se učinak treće aproksimacije, pri ostalim istim uslovima. Razlike su u oblasti malih talasnih brojeva. Primetimo da treći aproksimant leži iznad prvog, tako da je odstupanje nultog aproksimanta od tačnog rešenja manje nego što bi se to moglo zaključiti na osnovu slike 3.
Slika 4. Disperzioni grafik aksijalno simetričnog talasa na cilindru hladne homogene plazme u homo-genom dielektriku permitivnosti εg=4.8 ; parametar elektronske gustine p0=1; upoređenje prvog i trećeg aproksimanta; gornja kriva: treći aproksimant po metodu fiksne tačke; donja kriva: prvi aproksimant po metodu fiksne tačke, jed. (63)
Aproksimant Y1 , jed. (63), principijelno je poboljšanje u odnosu na kvazistatičku aproksimaciju, jed. (62); daje ispravnu vrednost za prag talasnog broja, ima ispravnu asimptotiku; pokazuje malu grešku izračunavanja u celom opsegu talasnih brojeva; izraz je eksplicitan i prilagođen za efikasno korišćenje u kompjuterskim programima.
Na slici 5 vidimo grafik normalizovane snage u funkciji normalizovane učestanosti
Slika 5. Normalizovana snaga aksijalno simetričnog površinskog talasa eksitovanog slot antenom na plazmenom cilindru u dielektriku permitivnosti εg=4.8 u funkciji normalizovane učestanosti; relativni poluprečnik slota R/a=1.5; parametar elektronske gustine p0=0.1; disperziona relacija uračunata preko prvog aproksimanta Y1, po jed. (63).
Plazmeni cilindar je u staklu permitivnosti 4.8 ; plazmena gustina je određena parametrom p0=0.1 ; relativna visina slota je aR=1.5 ; korišćen je disperzioni
Slika 6. Normalizovana snaga aksijalno simetričnog talasa na plazmenom cilindru u dielektriku permitivnosti εg=4.8 u funkciji normalizovanog poluprečnika slota; parametar elektronske gustine p0=0.126; zakon disperzije uračunat približnim načinom, po metodu fiksne tačke, pomoću prvog aproksimanta, jed. (63); tri krive dobijene za razne vrednosti normalizovanog talasnog broja (X=1.5,1,0.5 odozgo naniže, u maksimumu).
aproksimant prvog reda po jed. (63).
Snaga ima širok maksimum, u većem delu opsega učestanosti, a pada na nulu u početnom delu za male učestanosti i u oblasti asimptotike disperzione relacije.
Na slici 6 prikazana je normalizovana snaga u funkciji normalizovane visine slota, za razne vrednosti normalizovanog talasnog broja; postoji maksimum (optimum eksitacije) u oblasti manjih talasnih brojeva; primećuje se oblast grupisanja krivih za R∼1.5a, kada snaga talasa malo zavisi od talasnog broja; selektivni karakter eksitacije izražen je za veće vrednosti talasnih brojeva; pri talasnim dužinama reda veličine λ∼4πa izbor poluprečnika slota nije kritičan.
Rezultati ovog poglavlja korisni su, između ostalog, za upoređivanja sa rezultatima koji će biti dobijeni u sledećoj glavi, kada ćemo rešiti eksitacioni problem za plazmu u staklenoj cevi; po konceptu ekvivalentnog dielektrika, koji smo diskutovali u radu [32], aproksimativno se talas na slojevitoj strukturi oko plazme može tretirati kao talas na plazmi u homogenoj sredini pod uslovom da se na pogodan način definiše efektivna permitivnost te sredine.